事業紹介
カーボンニュートラル実現に向けたキーテクノロジーの1つである次世代電池、さまざまな機能を持ったナノスケールの機能性粒子、５G・６G通信システムや環境対応車の普及、先進運転支援システム (ADAS)の進歩を背景に超小型化・高信頼性が求められるMLCCをはじめとする受動部品、DXによる質の高い医療、AI・デジタル化の進む医療機器など、社会のあらゆる分野で我々のコーティング技術に期待が集まっています。
液相技術
液相技術
材料・装置・プロセスのベストプラクティスを提案
MLCC/MLCI/バリスタ/サーミスなど受動部品における次世代誘電体シート成形、内部電極⼯程、両端⼦‧多端⼦の外部電極塗布及び塗布前後⼯程に関するプロセス技術‧装置‧治具‧受託サービスをご提供。世界最⼩サイズ0201mm〜等、弊社の特許技術‧ユニークなプロセス技術がお客様のご要望にお応えします。
気相技術
気相技術
常温高密度プラズマ成膜を当社の気相技術のコアテクノロジーとして粉体、デバイスに最適な成膜ソリューションの提案
電池原料や磁性材料など各種粉体・最先端デバイスの複雑な表面形状にも、有機・無機（金属、化合物、酸化物、窒化物）の1nm～1µmの緻密な成膜が可能です。ガスバリア膜、耐腐食膜、導電膜、絶縁膜などのその他様々な成膜に応用できます。
AI×ロボティクス技術
AI×ロボティクス技術
AI技術がもたらす｢自動化｣から｢自律化｣への提案
液相・気相技術×AIによる新材料探索・プロセス条件の革新をサポートします。
ロボット自らが物性評価・条件および組成の最適化の判断を行い、物質合成を行う。AIとロボット技術を駆使したジェネレーティブデザインで「革新的な最適解」を導きます。それがセレンディピティ（予想外の発見）をも生み出します。
製品紹介
液相から気相まで、お客様のニーズに合わせた製品を豊富に取り揃えています。
ご紹介しているもの以外でも、お客様のご要望内容によっては対応可能な場合も
多くございますので、まずはお気軽にご相談ください。
液相技術
クリエイティブなコーティング技術を筆頭に顧客の技術課題解決と前人未到のイノベーションによる
ものづくりを目指します。材料・装置・プロセス・ノウハウ・知財を五味一体で提供します。
両端子・多端子外部電極形成プロセス
従来方式の電極塗布方式を技術改良し、お客様の製品や材料にあわせたプロセス条件、ジグ、装置、
外部電極材料の最善に関する開発サポート、受託塗布まで幅広く対応いたします。
TOP膜厚の薄膜化とコーナー厚膜化を重要視しています。
両端子
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多端子
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液相技術の紹介動画です。
グリーンシート成形プロセス
MLCC誘電体層（グリーンシート）を成形します。装置はフィルム巻き出し部、塗工部の
クリーンな環境を実現し、膜厚測定、欠陥検査など、in-lineで組み込みが可能です。
材料メーカー、装置、コーティングプロセスの最善化で高品質なスラリーで誘電体層の提供をいたします。
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受動部品用メッキプロセス
コンパクトな装置設計、金メッキも可能です。独立したメッキ槽で構成され、一つの槽で2系統のメッキ液供給系を有します。MLCC, MLCI共に、0201mm（008004in）から3225mm（1210in）まで対応可能です。
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気相技術
時代と環境が求める次世代の気相技術を提供します。
過去の気相技術を根本的に見直しをしました。
半導体向け常温高密度プラズマALD装置と常温高密度プラズマ粉体ALD成膜装置の二刀流技術で技術革新に貢献します。
常温高密度プラズマ粉体ALD成膜プロセス
CMVA-500P
常温高密度プラズマALD装置
【チャンバーサイズ】
- □500mm
【特徴】
- 真空中での常温高密度プラズマALD装置
- 実験/研究開発用途向け粉体仕様
【応用例】
- 粉体(全固体電池材料、誘電体材料、磁性材料など)
- 量子ドット粉末
CMP-200
常温高密度プラズマ粉体ALD成膜装置
【チャンバーサイズ】
- φ200mm
【特徴】
- 大気圧下での粉体用連続成膜
- 実験/研究開発用途向け
【応用例】
- 粉体(全固体電池、誘電体材料、磁性材料など)
- 量子ドット粉末
CMP-400
常温高密度プラズマ粉体ALD成膜装置
【チャンバーサイズ】
- φ400mm
【特徴】
- 大気圧中で旋回流を利用した粉体成膜
【応用例】
- 粉体(全固体電池、誘電体材料、磁性材料など)
- 量子ドット粉末
CMVA-500P
常温高密度プラズマALD装置
【チャンバーサイズ】
- □500mm
【特徴】
- 真空中での常温高密度プラズマALD装置
- 実験/研究開発用途向け粉体仕様
【応用例】
- 粉体(全固体電池材料、誘電体材料、磁性材料など)
- 量子ドット粉末
CMP-200
常温高密度プラズマ粉体ALD成膜装置
【チャンバーサイズ】
- φ200mm
【特徴】
- 大気圧下での粉体用連続成膜
- 実験/研究開発用途向け
【応用例】
- 粉体(全固体電池、誘電体材料、磁性材料など)
- 量子ドット粉末
CMP-400
常温高密度プラズマ粉体ALD成膜装置
【チャンバーサイズ】
- φ400mm
【特徴】
- 大気圧中で旋回流を利用した粉体成膜
【応用例】
- 粉体(全固体電池、誘電体材料、磁性材料など)
- 量子ドット粉末
常温高密度プラズマALD成膜プロセス(高温はオプション)
CMVA-300
常温高密度プラズマALD装置
【チャンバーサイズ】
- □300mm
【特徴】
- 常温～100℃での成膜
熱耐性の弱い基板・デバイスに対応可能。
- リモートプラズマと長寿命OHラジカルの活用
高密度プラズマを用いて反応性の高いOHラジカルを生成。
OHラジカルの長寿命と高い酸化力により、高品質な酸化膜形成が可能。
- 膜の均一性と緻密性
微細構造や高アスペクト比の孔内部でも均一で緻密な膜形成が可能。
【応用例】
- 高アスペクトTGV/TSVに成膜可能
- SAWフィルター,太陽電池,その他電子部品デバイスへの成膜が可能
- R&D使用に最適(8”サイズ以下の基板)
CMVA-500
常温高密度プラズマALD装置
【チャンバーサイズ】
- □500mm
【特徴】
- 常温～100℃での成膜
熱耐性の弱い基板・デバイスに対応可能。
- リモートプラズマと長寿命OHラジカルの活用
高密度プラズマを用いて反応性の高いOHラジカルを生成。
OHラジカルの長寿命と高い酸化力により、高品質な酸化膜形成が可能。
- 膜の均一性と緻密性
微細構造や高アスペクト比の孔内部でも均一で緻密な膜形成が可能。
【応用例】
- 各種粉体(全固体電池材料,誘電体材料,磁性体材料)
- 高アスペクトTGV/TSVに成膜可能
- SAWフィルター,太陽電池,その他電子部品デバイスへの成膜が可能
CMVA-1000
常温高密度プラズマALD装置
【チャンバーサイズ】
- □1000mm
【特徴】
- 常温～100℃での成膜
熱耐性の弱い基板・デバイスに対応可能。
- リモートプラズマと長寿命OHラジカルの活用
高密度プラズマを用いて反応性の高いOHラジカルを生成。
OHラジカルの長寿命と高い酸化力により、高品質な酸化膜形成が可能。
- 膜の均一性と緻密性
微細構造や高アスペクト比の孔内部でも均一で緻密な膜形成が可能。
【応用例】
- 大面積対応可能
- 高アスペクトTGV/TSVに成膜可能
- SAWフィルター,太陽電池,その他電子部品デバイスへの成膜が可能
- R＆Dから生産対応可能
CMVA-300
常温高密度プラズマALD装置
【チャンバーサイズ】
- □300mm
【特徴】
- 常温～100℃での成膜 熱耐性の弱い基板・デバイスに対応可能。
- リモートプラズマと長寿命OHラジカルの活用 高密度プラズマを用いて反応性の高いOHラジカルを生成。
- 膜の均一性と緻密性 微細構造や高アスペクト比の孔内部でも均一で緻密な膜形成が可能。
OHラジカルの長寿命と高い酸化力により、高品質な酸化膜形成が可能。
【応用例】
- 高アスペクトTGV/TSVに成膜可能
- SAWフィルター,太陽電池,その他電子部品デバイスへの成膜が可能
- R&D使用に最適(8”サイズ以下の基板)
CMVA-500
常温高密度プラズマALD装置
【チャンバーサイズ】
- □500mm
【特徴】
- 常温～100℃での成膜 熱耐性の弱い基板・デバイスに対応可能。
- リモートプラズマと長寿命OHラジカルの活用 高密度プラズマを用いて反応性の高いOHラジカルを生成。
- 膜の均一性と緻密性 微細構造や高アスペクト比の孔内部でも均一で緻密な膜形成が可能。
OHラジカルの長寿命と高い酸化力により、高品質な酸化膜形成が可能。
【応用例】
- 各種粉体(全固体電池材料,誘電体材料,磁性体材料)
- 高アスペクトTGV/TSVに成膜可能
- SAWフィルター,太陽電池,その他電子部品デバイスへの成膜が可能
CMVA-1000
常温高密度プラズマALD装置
【チャンバーサイズ】
- □1000mm
【特徴】
- 常温～100℃での成膜 熱耐性の弱い基板・デバイスに対応可能。
- リモートプラズマと長寿命OHラジカルの活用 高密度プラズマを用いて反応性の高いOHラジカルを生成。
- 膜の均一性と緻密性 微細構造や高アスペクト比の孔内部でも均一で緻密な膜形成が可能。
OHラジカルの長寿命と高い酸化力により、高品質な酸化膜形成が可能。
【応用例】
- 大面積対応可能
- 高アスペクトTGV/TSVに成膜可能
- SAWフィルター,太陽電池,その他電子部品デバイスへの成膜が可能
- R＆Dから生産対応可能
気相技術の紹介動画です。
自律型AI技術
単なる設計の自動化ではなく、人間の創造的な思考をサポートする「自律型AI」。
目的や開発条件など複雑な課題に対して従来の手法では得られない無数の案を自動生成します。
人間では思いつかない形状や解決策を導き出す可能性があります。
成膜装置×AI
成膜装置と自律型AIを組み合わせる事で、自ら考え、動き、完遂する装置が生まれます。
研究者の手を介在せずに、材料開発や条件出しの最短最適化を行い、生産を自動化します。
担当者の負担を減らし、組織全体の生産性も向上します。
※拡大してご覧ください。
自律型AI技術の紹介動画です。
AI（人工知能）やロボットのシステム構築や装置開発・製造まですべてご提案が可能です。
研究開発や実験室でお困りの内容、多次元空間でのアプローチのご希望など、お気軽にお問い合わせください。
技術概要
顧客ニーズに応える技術課題克服企業として、独創的なコーティング技術を通じてSDGsに貢献します。
企業概要
| 社名 |
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|---|---|
| 代表者 |
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| 資本金 |
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| 設立 |
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| 事業内容 |
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| 主要取引業種 |
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| 監査法人 |
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| 顧問弁護士 |
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| 取引銀行 |
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| 本社 |
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| 研究開発拠点 |
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アクセス
本社研究所
〒113-0023 東京都文京区向丘二丁目28番12号ベルオーク本郷1-3F
電話：03-5946-8295 FAX番号：03-5946-8296
◆ 東京大学より車で2分
◆ 東京メトロ南北線 本駒込駅 徒歩4分
◆ 都営三田線 白山駅 徒歩7分
総合研究所/新産工場
〒940-2128 新潟県長岡市新産東町38
電話：0258-89-8608 FAX番号：0258-89-8609
◆ 長岡技術科学大学より車で5分
◆ 新幹線・電車・バス／JR長岡駅大手口より車で約15分
◆ 関越道／長岡ICより車で約5分
